影响因子 > SCIE > 应用数学
期刊简称:TOPOL APPL
期刊全称:TOPOLOGY AND ITS APPLICATIONS
ISSN0166-8641
影响因子2023:0.699 (2024年7月16日更新, 下次2025年7月20日更新)
学科分类:SCIE-(数学)-MATHEMATICS
SCIE-(应用数学)-MATHEMATICS, APPLIED
出版商:ELSEVIER
发行地址:RADARWEG 29, AMSTERDAM, Netherlands, 1043 NX
出版语言:English
索引数据库:SCIE (Science Citation Index Expanded);
Essential Science Indicators

影响因子SCIE期刊TOPOL APPL历年影响因子 派博传思
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论文收录SCIE期刊TOPOLOGY AND ITS APPLICATIONS历年索引论文数量
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五年总效
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SCIE期刊 2015-2023年历年影响因子
2023年0.699
2022年0.692
2021年0.583
2020年0.617
2019年0.531
2018年0.416
2017年0.549
2016年0.377
2015年0.493
SCIE期刊历年影响因子排名
2023年231/269
2022年242/268
2021年251/267
2020年248/265
2019年238/261
2018年243/254
2017年223/252
2016年242/255
2015年211/254
SCIE期刊索引论文
2023年281
2022年291
2021年317
2020年369
2019年336
2018年251
2017年342
2016年324
2015年313
SCIE期刊索引论文数量专业排名
2023年22/269
2022年21/268
2021年256/267
2020年247/265
2019年NULL/261
2018年NULL/254
2017年NULL/252
2016年NULL/255
2015年NULL/254
SCIE期刊总引频次
2023年3062
2022年3,055
2021年2,968
2020年3,238
2019年2,831
2018年2,408
2017年2,592
2016年1,952
2015年1,900
SCIE期刊总引频次学科排名
2023年67/269
2022年67/268
2021年69/267
2020年61/265
2019年55/261
2018年60/254
2017年53/252
2016年63/255
2015年56/254
SCIE期刊总引频次学科排名
2023年67/269
2022年67/268
2021年69/267
2020年61/265
2019年55/261
2018年60/254
2017年53/252
2016年63/255
2015年56/254
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2023年67/269
2022年67/268
2021年69/267
2020年61/265
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2018年60/254
2017年53/252
2016年63/255
2015年56/254
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2023年67/269
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2020年61/265
2019年55/261
2018年60/254
2017年53/252
2016年63/255
2015年56/254

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