影响因子 > SCIE > 应用物理
期刊简称:PLASMA CHEM PLASMA P
期刊全称:PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING
ISSN0272-4324
影响因子2023:2.613 (2024年7月16日更新, 下次2025年7月20日更新)
学科分类:SCIE-(化学工程)-ENGINEERING, CHEMICAL
SCIE-(应用物理)-PHYSICS, APPLIED
SCIE-(物理学-流体与等离子体)-PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
出版商:SPRINGER
发行地址:ONE NEW YORK PLAZA, SUITE 4600 , NEW YORK, United States, NY, 10004
出版语言:English
索引数据库:SCIE (Science Citation Index Expanded);
Current Contents Electronics & Telecommunications Collection;
Current Contents Engineering, Computing & Technology;
Current Contents Physical, Chemical & Earth Sciences;
Essential Science Indicators

影响因子SCIE期刊PLASMA CHEM PLASMA P历年影响因子 派博传思
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论文收录SCIE期刊PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING历年索引论文数量
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SCIE期刊 2015-2023年历年影响因子
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2022年3.678
2021年3.337
2020年3.148
2019年2.178
2018年2.768
2017年2.658
2016年2.355
2015年1.811
SCIE期刊历年影响因子排名
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2022年52/160
2021年62/161
2020年60/160
2019年76/155
2018年47/148
2017年45/146
2016年53/148
2015年59/145
SCIE期刊索引论文
2023年117
2022年85
2021年69
2020年113
2019年91
2018年77
2017年91
2016年91
2015年62
SCIE期刊索引论文数量专业排名
2023年93/159
2022年117/160
2021年104/161
2020年87/160
2019年107/155
2018年94/148
2017年93/146
2016年95/148
2015年89/145
SCIE期刊总引频次
2023年4091
2022年3,845
2021年4,005
2020年3,764
2019年3,134
2018年3,064
2017年2,848
2016年2,402
2015年2,081
SCIE期刊总引频次学科排名
2023年98/159
2022年101/160
2021年96/161
2020年95/160
2019年90/155
2018年89/148
2017年85/146
2016年86/148
2015年83/145
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