影响因子 > SCIE > 应用物理
期刊简称:J LASER APPL
期刊全称:JOURNAL OF LASER APPLICATIONS
ISSN1042-346X
影响因子2023:1.733 (2024年7月16日更新, 下次2025年7月20日更新)
学科分类:SCIE-(材料科学及交叉学科)-MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY
SCIE-(光学)-OPTICS
SCIE-(应用物理)-PHYSICS, APPLIED
出版商:AIP PUBLISHING
发行地址:1305 WALT WHITMAN RD, STE 300, MELVILLE, USA, NY, 11747-4501
出版语言:English
索引数据库:SCIE (Science Citation Index Expanded);
Current Contents Electronics & Telecommunications Collection;
Current Contents Engineering, Computing & Technology;
Essential Science Indicators

影响因子SCIE期刊J LASER APPL历年影响因子 派博传思
影响因子
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论文收录SCIE期刊JOURNAL OF LASER APPLICATIONS历年索引论文数量
论文收录
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历年论文
被引频次
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期刊J LASER APPL被引频次排名 @ SCIE物理，应用 派博传思

历年即时
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历年即时
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五年总效
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五年总效
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SCIE期刊 2015-2023年历年影响因子
2023年1.733
2022年2.168
2021年2.521
2020年1.636
2019年1.410
2018年1.443
2017年1.597
2016年1.492
2015年1.078
SCIE期刊历年影响因子排名
2023年114/159
2022年99/160
2021年86/161
2020年116/160
2019年111/155
2018年102/148
2017年84/146
2016年90/148
2015年104/145
SCIE期刊索引论文
2023年161
2022年124
2021年158
2020年144
2019年140
2018年116
2017年118
2016年101
2015年84
SCIE期刊索引论文数量专业排名
2023年80/159
2022年94/160
2021年139/161
2020年136/160
2019年134/155
2018年126/148
2017年121/146
2016年118/148
2015年119/145
SCIE期刊总引频次
2023年2859
2022年2,935
2021年2,917
2020年2,209
2019年1,758
2018年1,503
2017年1,040
2016年905
2015年625
SCIE期刊总引频次学科排名
2023年110/159
2022年109/160
2021年107/161
2020年109/160
2019年106/155
2018年111/148
2017年116/146
2016年113/148
2015年114/145
SCIE期刊总引频次学科排名
2023年110/159
2022年109/160
2021年107/161
2020年109/160
2019年106/155
2018年111/148
2017年116/146
2016年113/148
2015年114/145
SCIE期刊总引频次学科排名
2023年110/159
2022年109/160
2021年107/161
2020年109/160
2019年106/155
2018年111/148
2017年116/146
2016年113/148
2015年114/145
SCIE期刊总引频次学科排名
2023年110/159
2022年109/160
2021年107/161
2020年109/160
2019年106/155
2018年111/148
2017年116/146
2016年113/148
2015年114/145

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