影响因子 > SCIE > 工程及交叉学科
期刊简称:IEEE T IND APPL
期刊全称:IEEE TRANSACTIONS ON INDUSTRY APPLICATIONS
ISSN0093-9994
影响因子2023:4.252 (2024年7月16日更新, 下次2025年7月20日更新)
学科分类:SCIE-(电气和电子工程)-ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
SCIE-(工程及交叉学科)-ENGINEERING, MULTIDISCIPLINARY
出版商:IEEE-INST ELECTRICAL ELECTRONICS ENGINEERS INC
发行地址:445 HOES LANE, PISCATAWAY, USA, NJ, 08855-4141
出版语言:English
索引数据库:SCIE (Science Citation Index Expanded);
Current Contents Engineering, Computing & Technology;
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影响因子SCIE期刊IEEE T IND APPL历年影响因子 派博传思
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IEEE TRANSACTIONS ON INDUSTRY APPLICATIONS影响因子排名@SCIE工程及交叉学科


论文收录SCIE期刊IEEE TRANSACTIONS ON INDUSTRY APPLICATIONS历年索引论文数量
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IEEE TRANSACTIONS ON INDUSTRY APPLICATIONS索引论文排名@SCIE工程及交叉学科
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SCIE期刊IEEE T IND APPL历年论文被引频次 派博传思
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期刊IEEE T IND APPL被引频次排名 @ SCIE工程学,多学科 派博传思

历年即时
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SCIE期刊IEEE TRANSACTIONS ON INDUSTRY APPLICATIONS历年即时影响因子
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IEEE TRANSACTIONS ON INDUSTRY APPLICATIONS即时影响因子排名@SCIE工程及交叉学科
五年总效
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SCIE期刊IEEE T IND APPL五年总效影响因子 派博传思
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IEEE T IND APPL五年总效影响因子排名@SCIE工程学,多学科
SCIE期刊 2015-2023年历年影响因子
2023年4.252
2022年4.491
2021年4.079
2020年3.654
2019年3.488
2018年3.347
2017年2.743
2016年2.937
2015年1.901
SCIE期刊历年影响因子排名
2023年24/90
2022年23/91
2021年23/92
2020年22/91
2019年19/91
2018年16/88
2017年14/86
2016年13/85
2015年19/85
SCIE期刊索引论文
2023年689
2022年707
2021年629
2020年663
2019年719
2018年626
2017年617
2016年523
2015年550
SCIE期刊索引论文数量专业排名
2023年6/90
2022年5/91
2021年20/92
2020年19/91
2019年55/91
2018年NULL/88
2017年NULL/86
2016年NULL/85
2015年NULL/85
SCIE期刊总引频次
2023年31830
2022年32,429
2021年29,220
2020年25,984
2019年22,906
2018年23,879
2017年18,905
2016年17,996
2015年10,468
SCIE期刊总引频次学科排名
2023年6/90
2022年5/91
2021年6/92
2020年5/91
2019年4/91
2018年3/88
2017年4/86
2016年2/85
2015年5/85
SCIE期刊总引频次学科排名
2023年6/90
2022年5/91
2021年6/92
2020年5/91
2019年4/91
2018年3/88
2017年4/86
2016年2/85
2015年5/85
SCIE期刊总引频次学科排名
2023年6/90
2022年5/91
2021年6/92
2020年5/91
2019年4/91
2018年3/88
2017年4/86
2016年2/85
2015年5/85
SCIE期刊总引频次学科排名
2023年6/90
2022年5/91
2021年6/92
2020年5/91
2019年4/91
2018年3/88
2017年4/86
2016年2/85
2015年5/85

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